此套超純水設備主要用于電子行業，與五金電鍍、表面處理等行業不同的是，電子行業用超純水設備對水質要求相對嚴格，一般需要采用EDI工藝。電子半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18M?.cm、15M?.cm、10M?.cm、2M?.cm、0.5M?.cm，以區分不同水質。

電子行業超純水用水標準：（以下資料僅供參考，實際操作中以顧客所在具體行業、產品清洗用水要求進行工藝流程設計）

電子工業制備超純水設備的工藝大致分成以下3種：   
1、采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點   
2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點   
3、采用反滲透設備與電去離子（EDI）設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

次套超純水設備采用雙極反滲透+EDI系統：原水—原水箱—原水泵—絮凝加藥系統—石英砂過濾器—活性炭過濾器—軟化器—阻垢加藥系統—保安過濾器— 一級高壓泵—中間水箱— PH調節— 二級高壓泵— 二級反滲透— 純水箱—EDI增壓泵—紫外線殺菌器—EDI系統—超純水箱—超純水增壓泵—精混合床—微孔過濾器—用水點

功能簡介：

（1）石英砂過濾器：吸附水中的鐵銹、泥砂、大顆粒雜質降低濁度以保證下級過濾的效果

（2）活性炭過濾器：吸附水中的膠體、有機物、漂白粉等有機溶劑，保證下級過濾效果
（3）軟水器：除去水中的鈣鎂等離子，保證下級過濾效果，延長反滲透主機中膜組件的使用壽命
（4）反滲透主機：通過膜組件有效地去除水中的溶解鹽類、膠體、微生物、有機物等，生產純水
（5）EDI：又稱連續電除鹽技術，是通過陽陰離子膜對陽陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生。

（6）紫外線殺菌器：快速有效的殺滅各種細菌，病毒等微生物并降解水中氯化物

（7）精制混床：裝置羅門哈斯拋光樹脂，進一步提高水質（純水經過DEI后可達16兆，經過精混后可達18兆以上）

（8）0.2μm精密過濾器：高效能去除水、油霧、固體顆粒，100%去除0.01μｍ及以上顆粒、油霧濃度控制在0.01ppm/wt

電子行業生產：如單晶硅、半導體、集成電路塊、IC芯片封裝、彩色顯像管、玻殼、液晶顯示器、印刷電路板等生產工藝所配套純水、超純水系統。

(1)系統采用全不銹鋼配置，運行穩定，精致美觀，操作簡單方便；

(2)配備有原水箱、中間水箱，配備液位器裝置，防止因自來水壓力不穩定對設備造成影響； 
(3)配備專用無菌水箱，配備壓力式液位計，旋轉噴淋清洗及空呼吸裝置；

(4)配備有水箱進水電磁閥，比常規的浮球進水閥性能穩定；

(5)配備軟水器，并配備有專用鹽箱；

(6)采用雙級反滲透系統配置，最大程度確保系統穩定運行；

(7)配備有PH調節及在線檢測系統，計量泵，調節PH值，防止CO2 對產水水質的影響；

(8)采用進口海德能超低壓反滲透，脫鹽率高，使用壽命長，運行穩定，能耗下降20%；

(9)反滲透通過膜設計軟件及現場運行經驗，科學配置；

(10)配備專用濃水調節閥，操作方便；

(10)配備有UV紫外線及膜濾器，防止細菌對水質的影響；

(12)配備臭氧殺菌；清洗更徹底；

(13)具有壓力關鍵點設立無水、低壓、超壓、等多重保護安全功能；

(14)主要電器元件采用法國施耐德，保質保量，并按最佳配置設計。

(15)配備有超純化水輸送供水系統；